YG-G2A 2寸角度磨光機(jī)底盤(pán)尺寸 ：
50 (mm)
無(wú)負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)數(shù) ：
13000 (rpm)
YG-G2A 2寸角度磨光機(jī)
磨光機(jī)，包括具有導(dǎo)槽(1)的機(jī)座(2)，機(jī)座 (2)上導(dǎo)槽(1)的一側(cè)安裝有拋光輪(3)及其驅(qū)動(dòng)電機(jī) (4)，其特征是，所述機(jī)座(2)上還設(shè)有導(dǎo)水管(5)，導(dǎo)水管(5)出口(501)伸延至導(dǎo)槽(1)的上方，并對(duì)應(yīng)所述拋光輪(3)位置。角磨機(jī)是用來(lái)進(jìn)行金屬表面打磨處理一種手動(dòng)電動(dòng)工具。
操作方法
磨光機(jī)操作的關(guān)鍵是要設(shè)法得到*大的拋光速率，以便盡快除去磨光時(shí)產(chǎn)生的損傷層。同時(shí)也要使拋光損傷層不會(huì)影響*終觀察到的組織，即不會(huì)造成假組織。前者要求使用較粗的磨料，以保證有較大的拋光速率來(lái)去除磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后者要求使用*細(xì)的材料，使拋光損傷層較淺，但拋光速率低。
拋光要點(diǎn)
解決這個(gè)矛盾的*好的辦法就是把拋光分為兩個(gè)階段進(jìn)行。粗拋目的是去除磨光損傷層，這一階段應(yīng)具有*大的拋光速率，粗拋形成的表層損傷是次要的考慮，不過(guò)也應(yīng)當(dāng)盡可能小；其次是精拋(或稱(chēng)終拋)，其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷，使拋光損傷減到*小。磨光機(jī)拋光時(shí)，試樣磨面與拋光盤(pán)應(yīng)**平行并均勻地輕壓在拋光盤(pán)上，注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。同時(shí)還應(yīng)使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤(pán)半徑方向來(lái)回移動(dòng)，以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過(guò)程中要不斷添加微粉懸浮液，使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會(huì)減弱拋光的磨痕作用，使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象；濕度太小時(shí)，
網(wǎng)站導(dǎo)航: 濕度傳感器探頭, 不銹鋼電熱管, PT100傳感器, 流體電磁閥,鑄鋁加熱器,加熱圈
由于摩擦生熱會(huì)使試樣升溫，潤(rùn)滑作用減小，磨面失去光澤，甚至出現(xiàn)黑斑，輕合金則會(huì)拋傷表面。為了達(dá)到粗拋的目的，要求轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)速較低，*好不要超過(guò)600r/min；拋光時(shí)間應(yīng)當(dāng)比去掉劃痕所需的時(shí)間長(zhǎng)些，因?yàn)檫€要去掉變形層。粗拋后磨面光滑，但黯淡無(wú)光，在顯微鏡下觀察有均勻細(xì)致的磨痕，有待精拋消除。精拋時(shí)轉(zhuǎn)盤(pán)速度可適當(dāng)提高，拋光時(shí)間以?huà)伒舸謷伒膿p傷層為宜。精拋后磨面明亮如鏡，在顯微鏡明視場(chǎng)條件下看不到劃痕，但在相襯照明條件下則仍可見(jiàn)到磨痕。磨光機(jī)拋光質(zhì)量的好壞嚴(yán)重影響試樣的組織結(jié)構(gòu)，已逐步起有關(guān)專(zhuān)家的重視。近年來(lái)，國(guó)內(nèi)外在磨光機(jī)的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新機(jī)型、新一代的平面磨光機(jī)，正由原來(lái)的手動(dòng)操作發(fā)展成為各種各樣的半自動(dòng)及全自動(dòng)磨光機(jī)。
